主要特点 / MAIN FEATURE
● 超高真空兼容
● 优异的温度和束流稳定性
● 独立式的水冷结构，源与水冷可单独拆卸
● 适用于腐蚀材料的蒸发
● 低温区和裂解区之间具有良好的隔热性
● 坩埚容积可达1000cc
产品应用 / APPLICATIONS
● MBE，表面科学，薄膜生长，样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域
● 适用于蒸发：硫、硒、砷等材料
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
② 100：DN100CF ⑤可选 P：气动，M：手动
安装法兰
DN100CF (O.D. 6.0'' )
腔内长度
200~500mm可选
腔内直径
94mm
工作温度
高温区：300~800℃
低温区：100~400℃
加热方式
低温坩埚区、裂解区：钽丝加热
温度稳定性
±0.1℃
温度测量
K型热偶
烘烤温度
200℃
源数量
1
坩埚材料
石英，热解氮化硼，氧化铝，可定制其他材料
坩埚容积
低温区容积：1000cc
冷却方式
低温坩埚区和裂解区独立式水冷壁，与源炉分开拆卸
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
分子束外延系统（MBE)
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
蒸发材料
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