主要特点 / MAIN FEATURE：
● 样品尺寸：４英寸基片向下兼容
● 10个源炉接口，其他数量可定制
● 具有快速进样及传样的特点；暂存样品量可达5片，其他数量可定制
● 兼容SPM、RHEED、QCM、BFM等多种原位生长表征和监测手段
● 全自动化生长系统，可对各腔体真空泵实施操作、可控制各互联腔体插板阀、可进行工艺编程及实时监控系统状态；19寸触控式总控屏幕
● 集成化水电气模块，便于后期维护
产品应用 / APPLICATIONS：
● 表面科学，超薄膜层，有机分子层。
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
蒸发材料
化合物镀膜材料
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