主要特点 / MAIN FEATURE
● 超高真空兼容
● 高效的水冷设计
● 低温下精确控温
产品应用 / APPLICATIONS
● MBE，表面科学，薄膜生长，样品制备以及II-VI半导体薄膜研究和太阳能领域
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
②35:DN40CF
④L: ≤400℃
⑥可选 P: 气动, M: 手动 ⑧ K: type K
安装法兰
DN40CF (O.D. 2.75'' )
腔内长度
标准长度：210mm，180~400mm 可选
腔内直径
36.5mm
工作温度
100~400℃
加热方式
钽丝加热
温度稳定性
±0.1℃
温度测量
K型热偶
烘烤温度
200℃
源数量
1
坩埚材料
石英，氧化铝，热解氮化硼，可定制其他材料
坩埚容积
7cc、10cc
冷却方式
一体式水冷
挡板
手动或气动
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
分子束外延系统（MBE)
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
蒸发材料
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