主要特点 / MAIN FEATURE
● 超高真空兼容
● 特殊高效的水冷设计
● 多角度安装，可面朝下安装
● 可拆卸坩埚设计，快速更换添加样品
● 高重复性
产品应用 / APPLICATIONS
● 样品制备
● 薄膜生长
● 分子束外延
● 表面科学
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
④ M: 400~1500℃
⑥可选 P: 气动, M: 手动 ⑧可选 K: type K，C：type C
安装法兰
DN40CF (O.D.2.75'')
腔内长度
130~400mm可选
腔内直径
34mm
工作温度
80～1100℃
400～1400℃
加热方式
钨丝加热
温度稳定性
±0.1℃
温度测量
K型热偶
C型热偶
烘烤温度
≤200℃
源数量
1
坩埚材料
氧化铝,热解氮化硼,石英,可定制其他材料
坩埚容积
1cc
0.7cc
冷却方式
一体式水冷
挡板
内置挡板，可选气动或手动
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
分子束外延系统（MBE)
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
蒸发材料
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