用于蒸发的高纯度化合物镀膜材料。各种形状、尺寸和数量可供选择。材料可以按照所需的规格进行包装。
中文名称
氧化铝
元素符号
Al2O3
理论密度
3.97 g/cc
熔点
2072 ℃
氧化铟锡
In2O3·SnO2
7.14 g/cc
1800 ℃
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
分子束外延系统（MBE)
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
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