主要特点 / MAIN FEATURE
● 超高真空兼容
● 优异的温度稳定性
● 独立的三路控温
● 良好的热隔绝性
● 有效提高UHV系统的使用效率
产品应用 / APPLICATIONS
●表面科学
●超薄膜层
●多源掺杂
●样品制备
●有机物蒸发镀膜
型号注解 / PART NUMBER COMPOSITION
② 35：DN40CF
④ L ：低温（50-400℃）
⑥ M：手动；P：气动
⑧ K：TypeK
安装法兰
DN40CF (O.D.2.75”)
腔内长度
标准长度210mm；150mm-400mm可选
腔内直径
36mm
工作温度
50~350℃
加热方式
MCH加热
温度稳定性
±0.1℃
温度测量
K型热偶
烘烤温度
≤200℃
源数量
3
坩埚材料
氧化铝、石英（其他材料可定制）
坩埚容积
0.1cc、0.5cc
冷却方式
一体式水冷
PVD薄膜沉积系统
原子层沉积系统（ALD)
PVD多腔室互联系统
分子束外延系统（MBE)
扫描探针显微镜+分子束外延联合系统
坩埚和蒸发舟
溅射靶材
蒸发材料
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